双工件台的效率尽管比起传统的设备高了很多，但技术门槛并不高。
对于2002年初，还是光刻机巨头的泥康和家能而言，跟随难度并不大。
&想成为市场霸主，就必须在技术上领先老牌厂商。
而这个机会，很快就会来了。
现在，业内光刻机的光源所使用的紫外线打的波长均为193nm的DUV。业内普遍认为，谁能率先把波长降低，谁就能光刻机的市场上占据领先。
而aml就是在2002年7月份左右，遇到了“世外高人”林间——半导体技术专家。
也就是这位大佬，帮助amL，直接颠覆了家能、泥康的“干式光刻机”堡垒，发明出了“浸润式光刻机”。
既然已经知道amL成功的关键点在哪儿，陈默自然要在这之前，进行截胡，把林间这位半导体专家忽悠到自己门下来。
陈默现在有三丧公司30%的股份，而三丧在2002年的光刻机领域里，虽然不算很牛逼，但最基础的技术专利还是都有的。
只要能得到林间这名大将，抢先一步发明出浸润式光刻机来，再按照上一世aml的发展历史，把它的气运抢光。
那么未来，光刻机的龙头，就是他陈默！
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